Эпитаксиальные пластины

Согласно классификации производственных процессов, полупроводниковые кремниевые пластины В основном можно разделить на полированные пластины, эпитаксиальные пластины и высококачественные материалы на основе кремния, представленные кремниевыми пластинами SOI. Слитки монокристаллического кремния обрабатываются путем резки, шлифования и полировки с получением полированных пластин. Полированная пластина подвергается эпитаксиальному выращиванию с образованием эпитаксиальной пластины, которая затем обрабатывается такими процессами, как окисление, связывание или ионная имплантация, для формирования кремниевой пластины КНИ.Согласно классификации размеров, размеры полупроводниковых кремниевых пластин (рассчитанные в диаметре) в основном включают такие характеристики, как 125 мм (5 дюймов), 150 мм (6 дюймов), 200 мм (8 дюймов) и 300 мм (12 дюймов).Чем больше размер кремниевой пластины, тем больше чипов находится на ней. одна кремниевая пластина, что может повысить эффективность производства и снизить производственные затраты. Кремниевая пластина диаметром 300 мм в 2,25 раза превышает площадь кремниевой пластины диаметром 200 мм, а с точки зрения количества производимых чипов 1,5 см ×. Если взять в качестве примера чип диаметром 1,5 см, то имеется 232 кремниевых чипа диаметром 300 мм и 88 кремниевых чипов диаметром 200 мм. Количество кремниевых чипов диаметром 300 мм в 2,64 раза больше, чем кремниевых чипов диаметром 200 мм.